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更新时间：2025-05-13 | 阅读：892
详情介绍
GL Plasma等离子体清洗设备主要应用于活化，提升附着力和清洗等工艺。
●适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材（软工作模具基材）
●适用于清洗纳米压印基底表面
●适用于纳米压印基底表面增粘、激活、改性
●适用于增加工作模具基材与模具复制材料粘附性
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